法国(e)CrS/CoS2异质结的平面平均电子密度差。

然而，将建目前尚无可综合考虑设备变异的方法，将建可以通过直接将有问题的传感器设备与非破坏性测量相关联，在大规模制造过程中将它们隔离开来，也没有用高级数据分析来模拟理想设备的传感器响应以实现高度精确的预测。鉴于此，设欧生产美国威斯康星大学JunhongChen等人报告了一种自底向上的方法，设欧生产用于在大规模制造过程中对2DFET传感器设备的质量进行战略性控制，这种方法使得能够可靠且实时地监测流动水中的毒素，如在基于石墨烯的场效应晶体管（GFET）传感器阵列中所展示的。

实验数据点（黄色）的点和拟合曲线（褐色、洲最绿色和蓝色）的实线。低频噪声测量不仅表示1/f噪声背景中是否存在（G-R隆起）或不存在（垂直偏移或化学栅效应）重要类型的缺陷陷阱，大储还显示更高的传感器响应（补充图10），大储从而在需要时提供超低检测或在传感器响应可以被抑制的恶劣环境中进行传感（例如，通过更高的离子强度和其他类型水源中的干扰物质，如河流、湖泊或废水）。a通道电阻（RCH）-电容（CDL）对和理想设备的接触电阻（RCR）和电容（CC）对的示意等效电路模型，氢瓶以及带有缺陷的非理想设备（红色圆圈）由于金-探针复合物产生的电场导致通道中的电荷捕获。

尽管CPE参数n0.91可以作为具有类似理想顶层介电层（即独立于其厚度和类型）的FET传感器的通用定量标准，工厂但在低频范围（1-100Hz）内鉴定的Zˊ/Z˝比率1000可以特定于通道材料和传感器体系结构（例如，工厂其横向尺寸、接触电阻）（例如，其横向尺寸、接触电阻）。法国箭头表示目标毒素溶液添加的时间点。

响应相对于空气中的基线，将建并标准化为Pb2+离子溶液中的峰值。

设欧生产照片显示了切割后的晶圆尺寸传感器设备以及表面上带有测试溶液液滴的单个设备。洲最ρ的误差条由塑性激波速度的误差传播。

大储相关研究成果以Transonicdislocationpropagationindiamond为题发表在国际著名期刊Science 上。了解晶体中位错迁移率的上限对于准确建模、氢瓶预测和控制极端条件下材料的力学性能至关重要。

工厂(E)显示平面方向的未变形晶格结构。法国(C)和(F)中所示角度的误差表示多次测量的1σ。